PHOTOCLEAR™
PHOTOCLEAR™ 是一款兼具优异耐热性、耐化学性及高透明度的涂布材料。它被广泛用作触控面板的绝缘层或保护膜材料,以及阵列的平坦化膜材料。使用我们专门设计的硅氧烷树脂,可以同时实现高耐热性、高耐光性、高透明度和高硬度。通过将聚合物技术与纳米颗粒分散技术相结合,可以调节折射率并提高玻璃强度。

产品特性

1.我们专有的抗蚀剂设计技术,能够实现出色的图案加工性能和极高的可靠性。
2.使用我们专门设计的硅氧烷树脂,可以同时实现耐热性和透明性。
3.在多种应用中(通常包括智能手机、汽车和计算机等应用)具有经过实证检验的性能。

高耐热性 → 低释气量
高耐光性 → 卓越光稳定性
高透明度 → 卓越光学特性
高流动性 → 卓越流平能力
高硬度 → 出色的保护膜特性
低弹性 → 出色的粘附性

应用/用途

我们可以根据客户所需的应用或涂布方法提供建议,欢迎咨询。

<应用示例>

应用:触控面板绝缘层/保护膜、TFT 展平膜、玻璃加固、折射率调整层

<涂布方法示例>

旋转涂布机、狭缝模具、喷墨、喷雾、点胶机

触控面板应用示例

技术信息

<产品特性(保护膜/绝缘膜应用)>

标准项目 高耐热型 高折射率型 低温固化型
树脂 丙烯酸 硅氧烷 丙烯酸 硅氧烷
曝光类型 负胶 正胶 负胶 负胶
烘烤条件 [°C×min] 230×30 230×30 230×30 120×30
分辨率 [μm] 20 5 20 20
透射率 @2 µm [%] 98 98 95 98
折射指数 1.52 1.52 1.6 至 1.7 1.52