フォトクリア™
フォトクリア™は高い透明性を有しながら耐熱、耐薬品性に優れたコーティング材料です。タッチパネル向けの絶縁層・保護膜材料、アレイ向け平坦化膜材料として広く採用されています。独自設計のシロキサン樹脂を用いることにより、高耐熱性・高耐光性・高透明性・高硬度の両立が可能です。ポリマー技術とナノ粒子分散技術を融合させることで、屈折率の調整やガラス強度の向上も可能です。

特長

1.独自のレジスト設計技術により、優れたパターン加工性と高い信頼性を有する。
2.独自設計のシロキサン樹脂を用いることにより、耐熱性と透明性を両立。
3.スマートフォンを代表に、車載、パソコン等、幅広い用途において採用実績有り。

高耐熱性 → 低アウトガス
高耐光性 → 優れた光安定性
高透明性 → 優れた光学特性
高流動性 → 優れた平坦化能
高硬度  → 優れた保護膜特性
低弾性  → 優れた粘着性

用途・使い方

お客様の所望する用途・塗布方式に合わせてご提案致しますのでまずはご相談ください。

<用途例>

タッチパネル向け絶縁層・保護膜、TFT平坦化膜、ガラス補強層、屈折率調整層

<塗布方式例>

スピンコーター、スリットダイ、インクジェット、スプレー、ディスペンサー

タッチパネルへの適用例

技術情報

<製品特性(保護膜・絶縁膜用途)>

標準品 高耐熱タイプ 高屈折率タイプ 低温硬化タイプ
樹脂 アクリル シロキサン アクリル シロキサン
露光タイプ ネガ型 ポジ型 ネガ型 ネガ型
焼成条件 [℃×分] 230×30 230×30 230×30 120×30
解像度 [μm] 20 5 20 20
透過率@2μm [%] 98 98 95 98
屈折率 1.52 1.52 1.6 ~ 1.7 1.52