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感光性聚酰亚胺 PHOTONEECE™

PHOTONEECE™
PHOTONEECE™ 是一款感光性聚酰亚胺涂布材料,是通过集中聚酰亚胺耐热树脂与光敏控制领域的独特设计技术研发而成的。我们拥有丰富的产品系列以满足各类需求,包括正型“PW 系列”和“LT 系列”,以及负型“PN 系列”。这些产品多年来用于半导体/电子元件的保护膜和绝缘膜。

产品特性

1.高可靠性(耐热性、机械特性、绝缘特性、耐化学性)
2.具备世界级光敏度和优异的图形尺寸稳定性
3.丰富的产品阵容,适用于多种应用和工艺

应用/用途

<使用方法>

使用方法示意图

<应用>

•半导体表面保护膜(缓冲涂层)
•晶圆级/面板级封装再布线层 (RDL)
•电子元件层间绝缘膜、空腔结构成型应用 

半导体缓冲涂层
PHOTONEECE、SEMICOFINE 半导体缓冲涂层示意图

电子元件
PHOTONEECE、SEMICOFINE 电子元件示意图

再布线层 (RDL)
PHOTONEECE、SEMICOFINE 再布线层 (RDL) 示意图

技术信息

<产品特点>

标准材料

GN 系列 LT 系列 PW 系列
产品特性 适用于厚膜、高耐热性 低温固化、高分辨率 高灵敏度、高分辨率
曝光类型 负胶 正胶 正胶
显影液 碱性 碱性 碱性
固化温度 [°C] ≥ 300 ≥ 200 ≥ 300
膜厚 [μm] 8 至 20 1 至 11 1 至 11
分辨率 [μm] ≥ 30 ≥ 5 ≥ 5
GN 系列 LT 系列 PW 系列
拉伸强度 [MPa] ≥ 150 ≥ 130 ≥ 150
伸长率 [%] ≥ 40 ≥ 50 ≥ 50
弹性模量 [GPa] ≥ 3 ≥ 2 ≥ 3
热膨胀系数 [ppm/°C] ≤ 50 ≤ 50 ≤ 40
玻璃化转变温度 [°C] ≥ 300 ≥ 270 ≥ 300
5% 热失重温度 [°C] ≥ 500 ≥ 350 ≥ 450

无氟

GN-K 系列 LT-K 系列 PW-K 系列
产品特性 低温固化、适用于厚膜 低温固化、高分辨率 高灵敏度、高分辨率
不含 NMP 〇 〇 〇
曝光类型 负胶 正胶 正胶
显影液 碱性 碱性 碱性
固化温度 [°C] ≥ 200 ≥ 200 ≥ 300