可实现超厚膜·高纵横比微加工
光敏性聚酰亚胺材料

◆特征

一种负型感光材料,采用光刻法可以实现最大厚度为500微米,纵横比比为36的加工性能。作为具有高可靠性(耐热性、耐化学性、机械强度、绝缘性、耐X射线性)的聚酰亚胺材料,有望应用于半导体/电子元件的绝缘材料,以及面向MEMS器件的结构材料。 我们还开发出了环境友好型的新规格“STF-2000”,它不含NMP、不含PFAS,同时满足碱性显影,实现可持续发展的目标。

产品编号 STF-1000 STF-2000
特征 高纵横比 环保
加工膜厚 ≦500μm ≦200μm
曝光波长 h线(405nm) h线(405nm)
显影工艺 碱性显影 碱性显影
内含溶剂 非NMP溶剂 非NMP溶剂
不含PFAS 不满足 满足
保存条件 冷冻(≤-15°C) 冷冻(≤-15°C)

◆加工方法

加工示例(膜厚:500µm)

格子加工(14µm/160µm)

加工示例 (膜厚:200µm)

线圈加工(10µm/100µm)

线圈状加工
截面

通孔加工(Φ70µm)

截面
线宽加工
  柱状加工

固化膜物理性能(参考值)

产品型号 STF-1000 STF-2000
高纵横比e 环保
玻璃化转变温度(℃) 200~250 200~250
5%热失重温度(℃) 280~330 280~330
CTE(ppm/℃) 70~75 70~75
弹性模量(GPa) 2.0~2.5 2.0~2.5
拉伸强度(MPa) 90~100 30~40
拉伸伸长率(%) 6.0~8.0 1.5~2.5