超厚膜・ハイアスペクト微細加工対応
感光性ポリイミド材料

◆特徴

フォトリソグラフィー法を用いて最大膜厚500um、アスペクト比36で加工可能なネガ型感光性材料です。ポリイミドの高い信頼性(耐熱性、耐薬品性、機械強度、絶縁性、X線耐性)を活かして、半導体/電子部品向けの絶縁材料やMEMSデバイス向けの構造材料への展開が期待できます。
環境に配慮したNMPフリー、PFASフリー、アルカリ現像のサステナブル仕様「STF-2000」も新たに開発しました。

品番 STF-1000 STF-2000
特徴 ハイアスペクト対応 環境対応
加工膜厚 ≦500μm ≦200μm
露光波長 h線(405nm) h線(405nm)
現像工程 アルカリ現像 アルカリ現像
含有溶剤 非NMP溶剤 非NMP溶剤
PFASフリー 非対応 対応
保存条件 冷凍(≦-15℃) 冷凍(≦-15℃)

◆加工方法

加工例 (膜厚:500µm)

格子加工(14µm/160µm)

加工例 (膜厚:200µm)

コイル加工(10µm/100µm)

コイル形状加工
断面

ビア加工(Φ70µm)

断面
ラインスペース加工
  ピラー加工

硬化膜物性(参考値)

品番 STF-1000 STF-2000
ハイアスペクト対応 環境対応
ガラス転移温度(℃) 200~250 200~250
5%重量減少温度(℃) 280~330 280~330
CTE(ppm/℃) 70~75 70~75
弾性率(GPa) 2.0~2.5 2.0~2.5
引張強度(MPa) 90~100 30~40
引張伸度(%) 6.0~8.0 1.5~2.5