超厚膜・ハイアスペクト微細加工対応
感光性ポリイミド材料
◆特徴
フォトリソグラフィー法を用いて最大膜厚500um、アスペクト比36で加工可能なネガ型感光性材料です。ポリイミドの高い信頼性(耐熱性、耐薬品性、機械強度、絶縁性、X線耐性)を活かして、半導体/電子部品向けの絶縁材料やMEMSデバイス向けの構造材料への展開が期待できます。
環境に配慮したNMPフリー、PFASフリー、アルカリ現像のサステナブル仕様「STF-2000」も新たに開発しました。
品番 | STF-1000 | STF-2000 |
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特徴 | ハイアスペクト対応 | 環境対応 |
加工膜厚 | ≦500μm | ≦200μm |
露光波長 | h線(405nm) | h線(405nm) |
現像工程 | アルカリ現像 | アルカリ現像 |
含有溶剤 | 非NMP溶剤 | 非NMP溶剤 |
PFASフリー | 非対応 | 対応 |
保存条件 | 冷凍(≦-15℃) | 冷凍(≦-15℃) |
◆加工方法

加工例 (膜厚:500µm)
格子加工(14µm/160µm)

加工例 (膜厚:200µm)
コイル加工(10µm/100µm)
コイル形状加工![]() |
断面 ➡⇩ |
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ビア加工(Φ70µm)
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断面 ➡⇩ |
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ラインスペース加工![]() |
ピラー加工![]() |
硬化膜物性(参考値)
品番 | STF-1000 | STF-2000 |
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ハイアスペクト対応 | 環境対応 | |
ガラス転移温度(℃) | 200~250 | 200~250 |
5%重量減少温度(℃) | 280~330 | 280~330 |
CTE(ppm/℃) | 70~75 | 70~75 |
弾性率(GPa) | 2.0~2.5 | 2.0~2.5 |
引張強度(MPa) | 90~100 | 30~40 |
引張伸度(%) | 6.0~8.0 | 1.5~2.5 |